MAGNETRON SPUTTERING


Sputtering teknolojisi hedef materyallerinin nano metre hassaslığıyla çeşitli substratlar üzerine kaplanmasına olanak vermektedir.

Substrat ve hedef materyali arasında oluşturulan yüksek gerilim ve vakum ortamında bulunan argon ve azot gazlarının etkisi ile oluşan plazma, hedef materyalinin substrat üzerine sıçramasına (Sputtering) ve kaplanmasını sağlar.

Plazma manyetik alan kullanılarak yönlendirildiği için, sputtering işlemi sırasında yüksek sıcaklığa dayanıklı mıknatıslar sayesinde substrat üzerine yönlendirilir.

Genel olarak; yüksek enerjili atomlar hedef materyaline o kadar sert biçimde vurur ki, yüzeyden kopan atomlar mıknatıslar ile yönlendirilerek substrat üzerine kaplanmış olur.

OC3 AG in line bilimsel ölçüm metodları kullanarak üretimi atomic seviyede kontrol altında tutmaktadır.

HABERLER
OC3 AG
  • SOLARION AG, OC3 AG TARAFINDAN DEVRALINMIŞTIR.

  • OC3 AG, SOLAR UYGULAMALARIYLA AVRUPA’DA ENERJİ ODAKLI TEKNOLOJİ ŞİRKETİ OLMAYI HEDEFLİYOR.

  • OC3 AG 2016 YILININ SONLARINDA 40 MW/YIL KAPASİTEYE ULAŞACAK.

  • SOLARION MARKASI YÜZ DEĞİŞTİRİYOR.


Teknolojİmİz
Enerjİ Odaklı Çözümler
  • İnce Fİlm Teknolojİsİ

    OC3 AG ileri düzey solar hücreler ve yarı iletken ürünler geliştirmek için uzun süredir ince film teknolojisi üzerinde çalışmaktadır.

  • Termal Buharlaşma

    Thermal buharlaştırma, metalik malzemelerin nano ölçekte ve yüksek saflıkta substrat üzerine kaplanması için kullanılmaktadır.

  • Magnetron Sputtering

    Sputtering teknolojisi hedef materyallerinin nano metre hassaslığıyla çeşitli substratlar üzerine kaplanmasına olanak vermektedir.

  • CIGS Solar Hücre

    OC3 AG patentli ion demeti destekli üretim yöntemi ile ince film solar hücreler ve solar modüller geliştirmektedir.